Serbuk mikro silika sferamempunyai ciri-ciri yang sangat baik seperti ketelusan tinggi, dielektrik tinggi, rintangan lembapan tinggi, jumlah pengisian yang tinggi, pengembangan rendah, tegasan rendah, dan pekali geseran rendah. Ia digunakan secara meluas dalam banyak bidang seperti bahan acuan epoksi, pemangkin, panel bersalut tembaga, pelekat, dan aeroangkasa.
Pada masa ini, kaedah arus perdana untuk menyediakan serbuk mikro silikon sfera termasuk kaedah membentuk nyalaan, kaedah penyemburan cair suhu tinggi, dsb. Kaedah spheroidisasi nyalaan terutamanya melibatkan penghancuran, penyaringan, penulenan, pengisaran halus bijih kuarza, dan kemudian memasukkannya ke dalam medan suhu tinggi yang dihasilkan oleh gas untuk lebur suhu tinggi. Melalui spheroidisasi tegangan permukaan, serbuk mikro silikon sfera akhirnya diperoleh dengan penyejukan. Kelemahan kaedah ini ialah prosesnya adalah kompleks, dan bijih kuarza sukar untuk dikeluarkan sepenuhnya, dengan ketulenan yang rendah, dan penggunaan tenaga yang tinggi dalam peringkat balling suhu tinggi akhir. Kaedah semburan lebur suhu tinggi adalah untuk mencairkan silikon oksida menjadi cecair pada lebih daripada 2000 darjah, dan kemudian membentuk serbuk silikon sfera selepas penyejukan semburan. Kaedah ini digunakan terutamanya di Amerika Syarikat dan Jepun, yang memerlukan peralatan yang ketat.
Ciptaan ini mendedahkan serbuk mikro silikon sfera pepejal dan kaedah penyediaannya, di mana kaedah penyediaan mengandungi:
(1) Sintesis sol silika
Sol silika dengan kandungan pepejal rendah (1-5%) telah disintesis melalui kaedah gel larutan, menggunakan tetraethyl orthosilicate sebagai sumber silikon organik, memanaskan dan mengacau dalam keadaan beralkali.
(2) Kepekatan sol silika
Panaskan dan pekatkan sol silika kandungan pepejal rendah yang dinyatakan di atas untuk mendapatkan sol silika kandungan pepejal yang tinggi (15% -50%).
(3) Pencampuran dan penggabungan bahan
Sol silika dan pemekat kandungan pepejal yang tinggi dicampur dan dikompaun di bawah keadaan pemanasan dan kacau untuk membentuk larutan sol silika yang mengandungi pemekat 0.001% -5%. Pemekat yang dipilih dalam kes ini ialah pemekat khusus yang mengandungi kumpulan karboksil atau amida, seperti poliakrilamida, karboksimetil selulosa, karboksimetilselulosa, asid poliakrilik, asid polimetil akrilik, karbomer, dsb., yang mudah diserap atau bertindak balas dengan kumpulan hidroksil silikon pada permukaan silika, dengan itu memudahkan pengagregatan zarah nano silika. Pemekat tidak mengandungi ion natrium atau kalium untuk mengelakkan gangguan kationik. Kandungan optimum pemekat ialah 0.05% -2%, dan yang paling optimum ialah 0.1% -1%.
(4) Pengeringan semburan
Selepas sol silika terkompaun dikeringkan dengan semburan (kedua-dua pneumatik dan emparan), serbuk silika sfera boleh diperolehi, tetapi pada masa ini, kandungan lembapan adalah 5% - 10%, dan agen pemekat khusus dikeluarkan dengan pengkalsinan suhu tinggi .
(5) Rawatan haba
Produk yang diperoleh selepas pengeringan semburan dihantar ke relau meredam untuk rawatan haba suhu tinggi untuk membakar lebihan pemekat. Selepas itu, ia disejukkan ke suhu bilik dan dibawa keluar untuk mendapatkan serbuk silikon sfera ketulenan tinggi sasaran.
Melalui proses di atas, serbuk mikro silika sfera dengan ketulenan 99.999% boleh diperolehi, dan proses penyediaannya mudah dan mudah, dengan penggunaan tenaga yang rendah dan kos yang rendah.
SAT NANO ialah salah satu pembekal terbaik serbuk mikro silika sfera, kami menawarkan 300nm, 500nm, 1000um, jika anda mempunyai sebarang pertanyaan, sila hubungi kami sales03@satnano.com
